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科技中国行·走进ETF成份股 从拓荆科技看科创板50投资价值

科技中国行·走进ETF成份股 从拓荆科技看科创板50投资价值

11月19日,《经济参考报》记者与数十名中小投资者共同走进科创板企业拓荆科技,实地进行调研,并与公司相关负责人进行近距离交流。此次活动旨在畅通上市公司与投资者的沟通渠道,加强投资者关系管理、展现上市公司投资价值。同时,让投资者更加深入直观了解上市公司经营情况,了解行业最新发展动态,把握科技行业的脉动,并引导投资者进行长期投资、价值投资。

科创板上市后发展迅猛

11月19日活动现场,中小投资者在拓荆科技相关负责人的全程陪同与专业讲解下开展实地参观,并进行了座谈,了解企业的相关生产工艺流程以及行业发展动态。投资者表示,通过现场参观学习,了解了薄膜沉积设备的工作原理,也对我国半导体设备行业的发展情况有了更为直观的认识。

据介绍,拓荆科技成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充(Flowable CVD)设备和三维集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 设备以及相关量测设备等系列。产品主要应用于集成电路晶圆制造、先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域。

2022年4月,拓荆科技正式登陆科创板。自此时起,公司开始了快速成长。财报数据显示,2022年至2024年,该公司营业总收入从17.06亿元快速增长至41.03亿元,归属于母公司股东的净利润则从3.69亿元增长至6.88亿元。2025年前三季度,拓荆科技实现营收42.20亿元,同比增长85.27%;实现归属于母公司股东的净利润5.57亿元,同比增长105.14%。

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